ABD'nin yarı iletken ihracat kısıtlamaları karşısında Çin, kendi geliştirdiği EUV litografi sistemiyle ASML'nin tekelini kırmayı hedefliyor. Harbin Teknoloji Enstitüsü'nden bir ekip, daha düşük maliyetli ve enerji verimli bir yöntemle 2025'te deneme üretimine geçmeyi planlıyor.
Kaynak: DonanımHaber
